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[发明专利]压力流体处理系统-CN202080018028.1在审
发明人： U·卡尔森;R·T·尼尔森 -专利权人：弗瑞瓦勒夫股份公司
申请日： 2020-02-25 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： F15B1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种压力流体处理系统(37)，其包括封闭的压力流体回路，其中所述压力流体回路包括彼此串联连接的压缩机(31)和压力槽(38)以及从压缩机(31)延伸到压力槽(38)的初级压力流体路径(30)和从压力槽(38)延伸到压缩机(31)的次级压力流体路径(32)，所述压力流体处理系统(37)还包括压力流体蓄能器(40)，该压力流体蓄能器经由第一压力流体蓄能器导管(41)连接到压力流体回路。该压力流体处理系统的特征在于，第一压力流体蓄能器导管(41)包括泵(42)，该泵配置为将压力流体从压力流体回路泵送到压力流体蓄能器(40)以降低压力流体回路中的压力水平，并且压力流体处理系统(37)包括至少一个可控部件，所述至少一个可控部件用于将压力流体从压力流体蓄能器(40)返回到压力流体回路，以增加压力流体回路中的压力水平。
压力流体处理系统

[发明专利]流体压力发生方法以及流体压力发生装置-CN201610843138.7有效
发明人：佐藤章;石仓新 -专利权人：杉野机械股份有限公司
申请日： 2016-09-22 - 公布日： 2018-10-19 - 主分类号： F04B5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种流体压力发生方法以及流体压力发生装置，其在向双作用式活塞施加工作介质的压力，驱动柱塞对流体进行加压时抑制流体的压力变动。流体压力发生方法包括如下步骤：当检测到所述活塞到达移动端时，切换所述活塞的行进方向的步骤；切换了所述活塞的行进方向以后，在工作介质泵的负荷未达到极限负荷的期间，工作介质泵以最大流量喷出工作介质的步骤；以及检测流体的压力，对流体的压力进行反馈，并进行控制，使得流体的压力与流体的目标压力之差为0的流体压力反馈控制步骤。
流体压力发生方法以及装置

[发明专利]流体恒压控制方法和流体恒压输出系统-CN202310406519.9在审
发明人：安然;李昊天 -专利权人：智涂机器人（深圳）有限公司
申请日： 2023-04-10 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： G05D16/20 文献下载
摘要：本发明涉及流体控制技术领域，具体而言，涉及一种流体恒压控制方法和流体恒压输出系统。一种流体恒压控制方法，包括：根据流体目标输出压力确定供气单元的预设输出压力；接收表征流量调节阀的流体出口的流体实际输出压力的信号；根据所述流体实际输出压力及所述流体目标输出压力，确定流体压力输出误差；在所述流体压力输出误差大于预设值的情况下，将所述流体压力输出误差代入PID反馈调节系统，并确定所述供气单元的修正输出压力；直至所述流体压力输出误差小于预设值。该流体恒压控制方法可以对流量调节阀的流体出口的流体输出压力实时控制，而且能够实现恒压控制能力，并快速适应不同工艺的流体压力需求。
流体控制方法输出系统

[发明专利]地层流体压力测量装置及使用其测量地层流体压力的方法-CN201510799460.X有效
发明人：王磊;宗艳波;郑俊华;钱德儒;孙明光;牛新明;刘鹏;郭瑞昌;马东军 -专利权人：中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油工程技术研究院
申请日： 2015-11-19 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： E21B49/00 文献下载
摘要：本发明涉及地层流体压力测量装置及使用其测量地层流体压力的方法。地层流体压力测量装置，包括管柱，在管柱内设置有：压力传递组件，压力传递组件包括压力腔和设置于压力腔内的活塞，用于从地层中获得地层流体的探头组件，探头组件通过地层流体管路连通到活塞的第一侧的压力腔，以及动力供应单元，动力供应单元通过对比流体管路连通到活塞的第二侧的压力腔，动力供应单元能抽吸对比流体管路中的对比流体，其中，在地层流体管路上连接有用于测量地层流体的流体压力的地层流体压力传感器，在对比流体管路上连接有用于测量对比流体的流体压力的对比流体压力传感器通过这种地层流体压力测量装置能得到准确的地层流体压力。
地层流体压力测量装置使用方法

[发明专利]流体压力缸-CN201410250709.7在审
发明人：堀川昭芳;竹林悠 -专利权人：株式会社小金井
申请日： 2014-06-06 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：本发明涉及可以容易地进行间隔壁的固定作业，提高流体压力缸的组装性的流体压力缸。在缸体(11)上安装有划分压力室(21b)、(22a)的间隔壁(14)，由设置于间隔壁(14)的卡合槽(31)和在缸体(11)上沿横切方向延伸形成的狭缝(32)形成止动件空间。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201510209925.1在审
发明人：日下浩志 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2015-04-28 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：一种流体压力缸(10)，包括位移块(20)，该位移块(20)在本体(12)的另一端侧可位移。构成缸单元(16)的活塞杆(26)的第二连接部(46)经由第二缸孔(72)与位移块(20)螺纹接合。另一方面，吸杆(18)的一端插入盖构件(82)，负压流体被供应到吸杆(18)的该一端。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201210276143.6在审
发明人：折原俊;铃木康永;星直树;朝原浩之 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2012-08-03 - 公布日： 2013-02-06 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：一种流体压力缸(10)，在流体压力缸(10)中，活塞(14)在压力流体的作用下沿着轴线方向移动。朝向活塞(14)且沿着缸筒(12)的轴线方向突起的圆形突起(76)被形成在组成部分流体压力缸(10)的套环构件(18)的内端表面上，能够从外部适配在圆形突起(76)的上方的凹部(62)被形成在活塞(14通过活塞(14)接触端板(22)，在活塞(14)和环形凹槽(87)之间形成压力接收室(S2)，同时缸筒(12)内侧上的第二端口(30)的开口最大被闭合90％。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201880087643.0在审
发明人：市川由美子 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： F15B15/28 文献下载
摘要：流体压力缸(10)以使保持磁铁(46)且安装于活塞单元(18)的保持部件(44)与缸筒(12)一起旋转的方式构成，并且通过将缸筒(12)固定为能够相对于杆罩(14)及顶罩(16)旋转，从而能够通过使缸筒
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201980059217.0在审
发明人：佐藤亮辅 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2019-09-09 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： F15B15/20 文献下载
摘要：当以横截面观察时，流体压力缸(10)中的缸孔(14)具有多边形形状，包括与构成主体(12)的多个表面平行的内周向表面。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201980059194.3在审
发明人：浅叶毅 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2019-09-09 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： F15B15/20 文献下载
摘要：一种流体压力缸(10)包括具有一对缸孔(20)的主体(12)，一对活塞(24)，一对活塞杆(26)和端板(50)。每个活塞(24)将相应的缸孔(20)分隔成头侧缸室(40)和杆侧缸室(42)。主体(12)包括电磁阀(100)，该电磁阀(100)构造成在向头侧缸室(40)或杆侧缸室(42)供应加压流体与从头侧缸室(42)或杆侧缸室(42)排出加压流体之间切换。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN202110394171.7在审
发明人：高桑洋二;朝原浩之;名仓诚一 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2021-04-13 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：一种流体压力缸，具有并列地配置的第一缸体部(20)和第二缸体部(36)，第一缸体部具有由第一活塞(24)划分出的顶侧的第一蓄压室(32)和杆侧的第二蓄压室(34)，第二缸体部具有由第二活塞(40)划分出的顶侧的开放室(48)和杆侧的驱动室(50)，与第一活塞连结的第一活塞杆(26)的端部和与第二活塞连结的第二活塞杆(42)的端部彼此连结，该流体压力缸具备单个的供排端口(16)，该供排端口用于进行对第二蓄压室和驱动室的压力流体的供排
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN202110823511.3在审
发明人：秋田崇文 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：本发明是一种流体压力缸，在罩部件(14、16)设置有缓冲孔(14b、16b)，筒状的缓冲环(28、32)以随着活塞(18)的移动而在缓冲孔中插拔自如的方式设置于活塞或活塞杆(20)，在形成于构成缓冲孔的罩部件的内壁的安装槽
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN202080077917.5在审
发明人：内山英树;须田健嗣;斋藤真实 -专利权人： SMC 株式会社
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： F15B15/28 文献下载
摘要：第一MR传感器(28)和第二MR传感器(30)由第一磁阻效应元件图案和第二磁阻效应元件图案组合而成，第一MR传感器与第二MR传感器隔开规定的间隔(L)配置，以使得在第一MR传感器接收到最多的与活塞(18)的轴向平行的方向的磁铁(26)的磁场分量时，第二MR传感器接收到最多的与活塞的径向平行的方向的磁铁的磁场分量。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN202280013966.1在审
发明人：高桥佑介;小林俊雄 -专利权人： KYB株式会社
申请日： 2022-02-03 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：轴承收容槽(51)具有与轴承(55)的外周面抵接的槽底部(511)、和限制轴承(55)向压力室(11)侧脱落的防脱壁(512)。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201410227866.6有效
发明人：日下浩志 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：一种流体压力缸(10)，包括位移构件(20)，该位移构件(20)能够在本体(12)的一端侧位移，并且连接本体(70)经由弹簧(108)被插入位移构件(20)的块体(92)中，该连接本体(70)被连接到缸单元
流体压力

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